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技術文章

紅外線高速加熱爐的工作原理及應用范圍

 
只有安裝在各種氣氛(例如超高真空或氣流)中的樣品才能通過紅外線jing確定位,以快速加熱樣品而不會發生接觸。

它可以輕松連接到真空系統或分析儀。
這是Thermo Riko的主要型號。
 
 
快速升溫:gao升溫速度150℃/秒,gao1500℃約1min
清潔加熱:不用擔心熱源或電磁感應產生的氣體
局部供暖:僅用紅外線照射樣品,請勿加熱周圍環境
可自由安裝:可以連接到各種系統
 
 
高速升溫和Si和SiC等樣品的退火
氧化氣氛中的氧化物晶體形成和薄膜形成
在氫氣和氮氣中加熱基材
在X射線或紫外線照射下樣品的溫度升高
在分析儀中加熱樣品,例如加熱的解吸氣體分析儀,XPS,XRD,PLD等。
在磁場中加熱,在非磁場中加熱
在加壓氣氛中加熱
加熱樣品
 
 
   紅外線引入加熱裝置根據應用具有以下規格。 
  
 超高真空型它支持 10 -9 Pa的超高真空。
 高速升溫型 大溫度上升率可以實現150°C /秒的高速溫度上升。
 常溫加熱型 對于放置在大氣中的樣品,可以進行點加熱。
 加壓氣氛類型 可以加熱壓力在10個大氣壓以下的樣品。
 特殊功能 利用GV系列的功能,我們可以滿足各種要求,例如快速降溫,負載加熱和磁場加熱。
 請隨時與我們聯系。
 CE標志合格 我們還生產符合CE標志的規范。

原理圖

 
 超高真空型GVH
 
型號名稱GVH198GVH298
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 gao溫度1200℃1400℃
 受熱面φ20毫米
 大加熱速度1℃/秒
 大極限真空5×10 -9
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘
 
 高速升溫型GV / GVL
 
型號名稱GV154GV198GVL298GVL398
 紅外燈額定值500瓦1千瓦2千瓦3千瓦
 gao溫度1100℃1300℃1500℃1600℃
 受熱面φ14毫米φ20毫米
 大加熱速度100℃/秒100-150℃/秒
 大極限真空5×10 -7
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘
 
 加壓氣氛類型GVP
 
型號名稱GVP198GVP298
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 gao溫度1200℃1300℃
 受熱面 φ20毫米
 大加熱速度 100℃/秒
 大耐壓 1MPa以下
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘
聯系人:林經理
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